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薄膜プロセスは，LSIからパワーエレクトロニクスまで，ナノ構造を制御して高性能・高機能デバイスを作製する際の要であり，電子物性やデバイス応用にあわせてさまざまな手法が用いられております．しかしながら，昨今開発スピードが重視され，創製やその評価にかかわる研究に重点がおかれ，薄膜プロセスのメカニズムの解明やその知見を元にした制御手法の研究についてはやや手薄になっている感があります．そこで，薄膜の成長過程の解明を切り口に成膜プロセスの制御について，横断的かつ系統的に議論を深めることで，基礎から応用まで，また，無機材料から半導体まで，成膜メカニズム解明における種々の知見から見い出される新たな制御手法やアイディアの創出をはかり，ひいては，薄膜開発のスピ−ドアップや新規薄膜の開発に資するべく，今回企画しました．
【プログラム】
①薄膜作製展望：成膜過程における核生成過程の解明と制御の展開/総論 矢口裕之（埼玉大学）
②３次元ナノ構造作製とその物性解析 田中秀和（大阪大学）
③ITO膜の成長メカニズムの解明やその制御 重里有三（青学大学）
④量子ドットの創製プロセスの解明とその制御 荒川泰彦（東京大学）
⑤ナノカーボン（グラフェン、カーボンナノチューブ）の成長機構とその制御 吾郷浩樹（九州大学）
⑥SiCのエピタキシャル成長機構と欠陥低減化技術 土田秀一（電力中研）
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