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第82回表面科学研究会「原子膜研究の最前線」
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主催
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公益社団法人日本表面科学会
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共催、協賛
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日本物理学会ほか
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開催期日
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2014年7月25日（金）
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開催場所
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東京工業大学 本館3階 理学系第2会議室 (345号室)
(〒152-8551 目黒区大岡山2-12-1 TEL03-5734-2071)
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内容
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グラフェンから酸化物まで様々な物質の原子膜の作製、基礎物性、デバイス応用に関して、最先端の研究を展開しておられる講師の方々からお話を伺い、原子膜研究の最前線と今後の展望を議論致します。
-プログラム-
「グラフェンをはじめとした二次元原子膜のCVD成長」
吾郷浩樹（九大先導研）
「ナノグラフェンの化学と電子物性」
藤井慎太郎（東工大院理工）
「グラフェンにおける局所格子ひずみによる物性制御」
神田晶申（筑波大数理物質）
「２層グラフェンにおけるギャップ内のキャリア応答と高キャリア密度下でのサブバンド散乱」
長汐晃輔（東大院工）
「カルコゲナイド系層状物質原子膜の作製と素子応用」
上野啓司（埼玉大院理工）
「酸化物ナノシートの精密集積とその応用」
長田 実（物材機構MANA）
「原子膜における散乱と積層システム」
塚越一仁（物材機構MANA）
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参加費
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協賛学協会会員：2,000円、学生：1,000円
(テキスト代、消費税を含む）
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参加申込方法
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ウエブサイト(http://www.sssj.org/)からお申し込みください。
2014年7月23日（水）（参加申込締切）
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連絡先
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（申込先）
〒113-0033
東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレイション402
公益社団法人日本表面科学会事務局
TEL：03-3812-0266 FAX：03-3812-2897
E-mail：shomu＠#-NO-SPAM-#sssj.org
（メールアドレスは「#-NO-SPAM-#」を削除してご利用ください）
URL：http://www.sssj.org
（問合先）
東京工業大学理工学研究科 木口 学
TEL/FAX：03-5734-2071
E-mail：kiguti＠#-NO-SPAM-#chem.titech.ac.jp
（メールアドレスは「#-NO-SPAM-#」を削除してご利用ください）
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その他
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詳細はＨＰをご覧ください。http://www.sssj.org
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