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第１日（６月３０日）
１．表面・界面分析概論（中央大）野副尚一
２．SPMの基礎（筑波大）重川秀実
３．SPMの応用（東北大）中嶋健
４．走査電子顕微鏡、電子ﾌﾟﾛｰﾌﾞﾏｲｸﾛｱﾅﾗｲｻﾞ(SEM/EPMA)
（島津）林広司 ほか
第２日（７月１日）
１．表面の特性基礎（東工大）木口学
２．電子線回折法(RHEED/LEED)(大同大）堀尾吉巳
３．放射光表面構造解析（慶応大）近藤寛
４．測定データ取扱いの基礎(慶応大) 太田英二 ほか
第３日（７月２日）
１．真空技術基礎（ｵﾐｸﾛﾝ ﾅﾉﾃｸﾉﾛｼﾞｰ）大岩烈
２．紫外光電子分光(UPS)（高エネ研）組頭広志
３．Ｘ線光電子分光法(XPS)（富士通研）中村誠
４．オージェ電子分光法(AES)（物材機構）岩井秀夫 ほか
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